Este documento discute a deposição e caracterização de camadas nanoestruturadas multicamadas não isoestruturais de (Ti0.7Al0.3N)/(Ti0.3Al0.7N) usando magnetron sputtering. As camadas individuais apresentam estruturas cristalinas diferentes (cúbica vs hexagonal) e propriedades mecânicas distintas que podem ser exploradas para melhorar o desempenho de corte e resistência à corrosão e oxidação a altas temperaturas.

6. Well-known effect for several iso-structural metal/ceramic or ceramic/ceramic nanostructured layers

10. Magnetron Sputtering

11. Main deposition parameters for Ti 1-x Al x N films . Power to Ti target (W) 1000 Power to Al target (W) Film A = 200 Film B = 800 Base pressure (Pa) < 5  10 -6 Working pressure (Pa) 2.4  10 -1 Ar:N 2 ratio 70:30 Titanium interlayer 1 min; 2.4*10 -1 Pa; 100% Ar; 800 W Bias voltage 50 V pulsed with 50 kHz Target to substrate distance (mm) 100

18. Time to deposit individual films with 3, 5, 10 and 20 nm multilayer coatings: A/B6, A/B10 A/B20 A/B40. Multilayer acronym Time to form film A (s) Time to form film B (s) Number of loops to form 1µm A/B6 16 4 166 A/B10 26 6 100 A/B20 53 12 50 A/B40 105 25 25

19. GDOS

20. Medium Energy Ion Scattering – MEIS – 100 keV H +

21. Narrow resonance nuclear reaction profiling – NRP

22. Narrow resonance nuclear reaction profiling – NRP

36. M2 Ti Ti 15 N M2 Ti 15 N M2 Ti TiN M2 TiN

44. XPS TiN/Ti/Aço TiN/Aço

47. Low energy ion scattering - LEIS M2 Ti TiN M2 TiN

48. Physicochemical, structural and mechanical properties of Si 3 N 4 films annealed in O2 G.V. Soares, I.J.R. Baumvol et al.

50. Well-known effect for several iso-structural metal/ceramic or ceramic/ceramic nanostructured layers

57. 18 O(p, α ) 15 N

58. 18 N(p, α ) 15 O