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Transistor de Efeito de Campo
Transistor de Efeito de Campo (FET)
- Disponível em dois tipos:
- JFET
- MOSFET (enriquecimento ou depleção)
- Disponível em duas polaridades:
- canal n
- canal p
- Possui 3 terminais: dreno (D), porta/gate (G) e fonte (S);
- Adequado para uso em CI (MOSFET);
- Possui alta impedância de entrada;
- Utilizado como amplificador ou chave analógica;
- Propriedades:
- Tamanho: o MOSFET ocupa de 20 a 30% da área de um chip ocupada por um BJT;
- Resistência controlada por tensão: ocupa menor área do que um resistor;
- Alta resistência e pequena capacitância de entrada: utilizado como elemento de
armazenamento em circuitos digitais;
- Capacidade para dissipar alta potência e chavear grandes correntes em menos do que
1ns. Possibilitando seu uso em chaveamento de alta frequência e alta potência.
Transistor de Efeito de Campo (MOSFET)
MOSFET
- Apresenta baixa capacitância de entrada;
- Maior impedância de entrada, comparada com o JFET;
- Dois tipos: enriquecimento e o depleção.
MOSFET – Tipo enriquecimento
Um MOSFET canal n consiste de um substrato tipo p onde duas regiões tipo n,
fortemente dopadas, são difundidas. Estas duas regiões formam a fonte e o dreno. O canal
não é fabricado neste dispositivo, ao contrário do que acontece no JFET.
Transistor de Efeito de Campo (MOSFET)
A porta (gate) é formada cobrindo a região entre o dreno e a fonte com uma camada de dióxido
de silício, do qual em cima é colocada uma placa de metal, daí o nome MOSFET (Metal, Óxido
e Semicondutor). Outro nome utilizado é IGFET (Insulated-Gate FET).
A região do canal tem um comprimento L e uma largura W, dois parâmetros importantes.
O caminho entre dreno e fonte tem uma resistência muito elevada (1012Ω), evitando, assim, a
condução de corrente entre dreno e fonte quando VDS é aplicado sem voltagem de porta (gate).
Este dispositivo opera com tensão VGS > 0, daí o termo enriquecimento ou crescimento. Nesta
situação (VGS > 0), um canal tipo n é induzido, entre fonte e dreno, como resultado dos elétrons,
da banda de condução, atraídos à superfície do substrato p, diretamente abaixo da porta (gate). O
valor de VGS na qual um número suficiente de elétrons móveis se acumulam na região do canal,
para formá-lo, é chamada tensão de limiar (Threshold Voltage) e é denominada Vt.
Transistor de Efeito de Campo (MOSFET)
Criando um Canal de Condução
A figura abaixo mostra que a fonte e o dreno estão aterrados e uma tensão positiva é
aplicada à porta.
O valor de VGS para o qual um número suficiente de elétrons móveis se acumulam na região
do canal para formar um canal de condução é chamado de tensão de limiar (threshold) e é
representado por Vt, que é positivo para um FET canal n.
Transistor de Efeito de Campo (MOSFET)
Operação com aumento de vDS
Mantemos VGS constante com um valor maior do que Vt. Portanto, a tensão entre a
porta e os pontos ao longo do canal diminui de VGS na fonte até VGS – VDS no dreno. Com
isso, o canal será mais profundo no final da fonte e mais superficial no final do dreno.
Quando VDS aumenta até o valor que reduz a tensão entre a porta e o canal no final do dreno
para Vt, isto é, VGS – VDS = Vt ou VDS = VGS – Vt, a profundidade do canal no final do
dreno diminui até próximo de zero e dize-se que o canal está estrangulado (pinched-off). A
corrente de dreno se mantém constante e dizemos que o MOSFET inicia sua operação na
região de saturação.
Para cada valor de VGS ≥ Vt, existe um correspondente valor de VDSsat. = VGS – Vt.
Transistor de Efeito de Campo (MOSFET)
Transistor de Efeito de Campo (MOSFET)
Transistor de Efeito de Campo (MOSFET)
Transistor de Efeito de Campo (MOSFET)
Transistor de Efeito de Campo (MOSFET)
MOSFET Depleção - Símbolo
Canal n
Canal p
Transistor de Efeito de Campo (MOSFET)
Transistor de Efeito de Campo (MOSFET)
Modelo para Pequenos Sinais (MOSFET)
MOSFET – Circuitos de Polarização
Transistor FET de junção (JFET)
O JFET tem uma impedância de entrada elevada, isso leva a uma perda de controle
sobre a corrente de saída. O JFET é menos sensível às variações na tensão de entrada do que
em um transistor bipolar.
- Uma variação de 0,1V em VGS produz uma variação na corrente ID menor que
10mA;
- Em um transistor bipolar, a mesma variação em VBE produz uma variação em IC
muito maior.
O JFET tem um ganho de tensão muito menor que o transistor bipolar. Alguns
projetistas utilizam circuitos com JFET e BJT para garantir alta impedância de entrada com
grandes ganhos de tensão.
Canal n Canal p
Estrutura Básica JFET
Transistor FET de junção (JFET)
- Operação
Se VGS = 0 → aplicando uma tensão entre dreno-fonte (VDS), começa a circular uma
corrente do dreno para fonte (IDS) – elétrons fluem da fonte para o dreno. A figura abaixo
mostra o que ocorre com o JFET quando VDS aumenta de valor.
No caso da figura (c), o campo elétrico produzido pela queda de tensão através da região de
depleção atrai os elétrons emitidos pela fonte, através da região de depleção, para o dreno.
Transistor FET de junção (JFET)
Quando VGS < 0 → aumenta região de depleção, pois há repulsão dos elétrons do canal;
neste caso, o canal fica mais superficial e sua resistência incrementa e a corrente ID
decrementa para um dado VDS. Sendo VDS pequeno, o canal é quase uniforme e o JFET está
simplesmente operando como uma resistência controlada por VGS. Continuando aumentando
negativamente a tensão VGS alcançaremos um valor onde o canal desaparece (ID = 0), ou
seja, estará vazio de portadores de carga (elétrons – canal n). Este valor de tensão é a tensão
de limiar (Vp) do dispositivo – para dispositivo canal n, Vp é negativo. Esta tensão também
é chamada de tensão de estrangulamento (pinch-off voltage) e é representada por Vp.
Transistor FET de junção (JFET)
Mantendo-se VGS constante em um valor maior que Vp (menos negativo) → incrementando
VDS a região de depleção incrementa de tamanho próximo ao dreno. Isto acontece devido ao
diodo formado pela porta (p) e o canal (n) está mais reversamente polarizado próximo ao
dreno. Assim, o canal fica com a forma afunilada e a característica ID x VDS torna-se não
linear. Quando a polarização reversa no dreno, VGD (VGS - VDS), cai abaixo da tensão Vp, o
canal se estrangula no dreno e a corrente satura (IDSS), ou seja, a corrente ID permanece
constante com o incremento de VDS acima de Vp.
Quando o JFET está saturado a corrente ID é controlada pelo campo elétrico criado
entre porta (G) e fonte (S).
Característica de
transferência ID X VGS.
A inclinação da curva
fornece gm, ou a
trancondutância, isto é, o
parâmetro que relaciona ID
com VGS.
Transistor FET de junção (JFET)
Então
A tensão VDS para qual ocorre o estrangulamento do canal é dada por
Assim, quando VGS = 0, VP = Vp0, como esperado. Para o gráfico anterior a tensão de
estrangulamento é zero quando VGS = -5V. Neste potencial negativo nenhuma corrente ID flui
pelo FET.
A tensão necessária entre dreno e o gate para causar o estrangulamento do canal é dada por
VDG = VDS – VGS = Vp0
A corrente no dreno, na região de saturação, pode ser dada por:
GS
GS V
v 



GS
D
m
v
I
g
GS
p0
P
DS V
V
V
V 
























2
3
GS
GS
DSS
DS
Vp
V
-
2
Vp
V
3
1
I
I
Transistor FET de junção (JFET)
Regiões de operação
- Corte: VGS ≤ Vp e ID = 0
- Triodo: Vp ≤ VGS ≤ 0 e VDS ≤ VGS – Vp
- Saturação: Vp ≤ VGS ≤ 0 e VDS ≥ VGS – Vp
ou
onde o termo (1 + ·VDS) representa a dependência linear de ID com VDS na região de saturação,
sendo  = 1/VA e VA e  são grandezas positivas para dispositivos canal n. Na maioria das vezes a
modulação do canal poderá ser desconsiderada.
IDSS é a corrente de saturação para VGS = 0.




































2
DS
DS
GS
DSS
DS
Vp
V
-
Vp
-
V
Vp
V
-
1
2
I
I
 
DS
2
GS
DSS
DS V
Vp
V
-
1
I
I 











 λ
1
Para operar como
chave, deve-se utilizar
as regiões de corte e
triodo.
2
GS
DSS
DS
Vp
V
-
1
I
I 









Modelo para Pequenos Sinais (JFET)
Modelo para Pequenos Sinais (JFET)
Cálculo de gm
ou alternativamente por
em que VGS e ID são as grandezas de polarização cc, e
Devemos lembrar que, para um dispositivo canal n, VP é negativa e a operação na região de
estrangulamento é obtida quando a tensão de dreno (D) é maior do que a tensão de porta (G) por
pelo menos |VP|.
http://www-g.eng.cam.ac.uk/mmg/teaching/linearcircuits/jfet.html
http://www-g.eng.cam.ac.uk/mmg/teaching/linearcircuits/mosfet.html
















 

Vp
V
-
1
I
g GS
DSS
m
P
V
2
DSS
D
DSS
m
I
I
I
g 







 

P
V
2
D
o
I
r A
V


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  • 2. Transistor de Efeito de Campo (FET) - Disponível em dois tipos: - JFET - MOSFET (enriquecimento ou depleção) - Disponível em duas polaridades: - canal n - canal p - Possui 3 terminais: dreno (D), porta/gate (G) e fonte (S); - Adequado para uso em CI (MOSFET); - Possui alta impedância de entrada; - Utilizado como amplificador ou chave analógica; - Propriedades: - Tamanho: o MOSFET ocupa de 20 a 30% da área de um chip ocupada por um BJT; - Resistência controlada por tensão: ocupa menor área do que um resistor; - Alta resistência e pequena capacitância de entrada: utilizado como elemento de armazenamento em circuitos digitais; - Capacidade para dissipar alta potência e chavear grandes correntes em menos do que 1ns. Possibilitando seu uso em chaveamento de alta frequência e alta potência.
  • 3. Transistor de Efeito de Campo (MOSFET) MOSFET - Apresenta baixa capacitância de entrada; - Maior impedância de entrada, comparada com o JFET; - Dois tipos: enriquecimento e o depleção. MOSFET – Tipo enriquecimento Um MOSFET canal n consiste de um substrato tipo p onde duas regiões tipo n, fortemente dopadas, são difundidas. Estas duas regiões formam a fonte e o dreno. O canal não é fabricado neste dispositivo, ao contrário do que acontece no JFET.
  • 4. Transistor de Efeito de Campo (MOSFET) A porta (gate) é formada cobrindo a região entre o dreno e a fonte com uma camada de dióxido de silício, do qual em cima é colocada uma placa de metal, daí o nome MOSFET (Metal, Óxido e Semicondutor). Outro nome utilizado é IGFET (Insulated-Gate FET). A região do canal tem um comprimento L e uma largura W, dois parâmetros importantes. O caminho entre dreno e fonte tem uma resistência muito elevada (1012Ω), evitando, assim, a condução de corrente entre dreno e fonte quando VDS é aplicado sem voltagem de porta (gate). Este dispositivo opera com tensão VGS > 0, daí o termo enriquecimento ou crescimento. Nesta situação (VGS > 0), um canal tipo n é induzido, entre fonte e dreno, como resultado dos elétrons, da banda de condução, atraídos à superfície do substrato p, diretamente abaixo da porta (gate). O valor de VGS na qual um número suficiente de elétrons móveis se acumulam na região do canal, para formá-lo, é chamada tensão de limiar (Threshold Voltage) e é denominada Vt.
  • 5. Transistor de Efeito de Campo (MOSFET) Criando um Canal de Condução A figura abaixo mostra que a fonte e o dreno estão aterrados e uma tensão positiva é aplicada à porta. O valor de VGS para o qual um número suficiente de elétrons móveis se acumulam na região do canal para formar um canal de condução é chamado de tensão de limiar (threshold) e é representado por Vt, que é positivo para um FET canal n.
  • 6. Transistor de Efeito de Campo (MOSFET) Operação com aumento de vDS Mantemos VGS constante com um valor maior do que Vt. Portanto, a tensão entre a porta e os pontos ao longo do canal diminui de VGS na fonte até VGS – VDS no dreno. Com isso, o canal será mais profundo no final da fonte e mais superficial no final do dreno. Quando VDS aumenta até o valor que reduz a tensão entre a porta e o canal no final do dreno para Vt, isto é, VGS – VDS = Vt ou VDS = VGS – Vt, a profundidade do canal no final do dreno diminui até próximo de zero e dize-se que o canal está estrangulado (pinched-off). A corrente de dreno se mantém constante e dizemos que o MOSFET inicia sua operação na região de saturação. Para cada valor de VGS ≥ Vt, existe um correspondente valor de VDSsat. = VGS – Vt.
  • 7. Transistor de Efeito de Campo (MOSFET)
  • 8. Transistor de Efeito de Campo (MOSFET)
  • 9. Transistor de Efeito de Campo (MOSFET)
  • 10. Transistor de Efeito de Campo (MOSFET)
  • 11. Transistor de Efeito de Campo (MOSFET)
  • 12. MOSFET Depleção - Símbolo Canal n Canal p
  • 13. Transistor de Efeito de Campo (MOSFET)
  • 14. Transistor de Efeito de Campo (MOSFET)
  • 15. Modelo para Pequenos Sinais (MOSFET)
  • 16. MOSFET – Circuitos de Polarização
  • 17. Transistor FET de junção (JFET) O JFET tem uma impedância de entrada elevada, isso leva a uma perda de controle sobre a corrente de saída. O JFET é menos sensível às variações na tensão de entrada do que em um transistor bipolar. - Uma variação de 0,1V em VGS produz uma variação na corrente ID menor que 10mA; - Em um transistor bipolar, a mesma variação em VBE produz uma variação em IC muito maior. O JFET tem um ganho de tensão muito menor que o transistor bipolar. Alguns projetistas utilizam circuitos com JFET e BJT para garantir alta impedância de entrada com grandes ganhos de tensão. Canal n Canal p Estrutura Básica JFET
  • 18. Transistor FET de junção (JFET) - Operação Se VGS = 0 → aplicando uma tensão entre dreno-fonte (VDS), começa a circular uma corrente do dreno para fonte (IDS) – elétrons fluem da fonte para o dreno. A figura abaixo mostra o que ocorre com o JFET quando VDS aumenta de valor. No caso da figura (c), o campo elétrico produzido pela queda de tensão através da região de depleção atrai os elétrons emitidos pela fonte, através da região de depleção, para o dreno.
  • 19. Transistor FET de junção (JFET) Quando VGS < 0 → aumenta região de depleção, pois há repulsão dos elétrons do canal; neste caso, o canal fica mais superficial e sua resistência incrementa e a corrente ID decrementa para um dado VDS. Sendo VDS pequeno, o canal é quase uniforme e o JFET está simplesmente operando como uma resistência controlada por VGS. Continuando aumentando negativamente a tensão VGS alcançaremos um valor onde o canal desaparece (ID = 0), ou seja, estará vazio de portadores de carga (elétrons – canal n). Este valor de tensão é a tensão de limiar (Vp) do dispositivo – para dispositivo canal n, Vp é negativo. Esta tensão também é chamada de tensão de estrangulamento (pinch-off voltage) e é representada por Vp.
  • 20. Transistor FET de junção (JFET) Mantendo-se VGS constante em um valor maior que Vp (menos negativo) → incrementando VDS a região de depleção incrementa de tamanho próximo ao dreno. Isto acontece devido ao diodo formado pela porta (p) e o canal (n) está mais reversamente polarizado próximo ao dreno. Assim, o canal fica com a forma afunilada e a característica ID x VDS torna-se não linear. Quando a polarização reversa no dreno, VGD (VGS - VDS), cai abaixo da tensão Vp, o canal se estrangula no dreno e a corrente satura (IDSS), ou seja, a corrente ID permanece constante com o incremento de VDS acima de Vp. Quando o JFET está saturado a corrente ID é controlada pelo campo elétrico criado entre porta (G) e fonte (S). Característica de transferência ID X VGS. A inclinação da curva fornece gm, ou a trancondutância, isto é, o parâmetro que relaciona ID com VGS.
  • 21. Transistor FET de junção (JFET) Então A tensão VDS para qual ocorre o estrangulamento do canal é dada por Assim, quando VGS = 0, VP = Vp0, como esperado. Para o gráfico anterior a tensão de estrangulamento é zero quando VGS = -5V. Neste potencial negativo nenhuma corrente ID flui pelo FET. A tensão necessária entre dreno e o gate para causar o estrangulamento do canal é dada por VDG = VDS – VGS = Vp0 A corrente no dreno, na região de saturação, pode ser dada por: GS GS V v     GS D m v I g GS p0 P DS V V V V                          2 3 GS GS DSS DS Vp V - 2 Vp V 3 1 I I
  • 22. Transistor FET de junção (JFET) Regiões de operação - Corte: VGS ≤ Vp e ID = 0 - Triodo: Vp ≤ VGS ≤ 0 e VDS ≤ VGS – Vp - Saturação: Vp ≤ VGS ≤ 0 e VDS ≥ VGS – Vp ou onde o termo (1 + ·VDS) representa a dependência linear de ID com VDS na região de saturação, sendo  = 1/VA e VA e  são grandezas positivas para dispositivos canal n. Na maioria das vezes a modulação do canal poderá ser desconsiderada. IDSS é a corrente de saturação para VGS = 0.                                     2 DS DS GS DSS DS Vp V - Vp - V Vp V - 1 2 I I   DS 2 GS DSS DS V Vp V - 1 I I              λ 1 Para operar como chave, deve-se utilizar as regiões de corte e triodo. 2 GS DSS DS Vp V - 1 I I          
  • 23. Modelo para Pequenos Sinais (JFET)
  • 24. Modelo para Pequenos Sinais (JFET) Cálculo de gm ou alternativamente por em que VGS e ID são as grandezas de polarização cc, e Devemos lembrar que, para um dispositivo canal n, VP é negativa e a operação na região de estrangulamento é obtida quando a tensão de dreno (D) é maior do que a tensão de porta (G) por pelo menos |VP|. http://www-g.eng.cam.ac.uk/mmg/teaching/linearcircuits/jfet.html http://www-g.eng.cam.ac.uk/mmg/teaching/linearcircuits/mosfet.html                    Vp V - 1 I g GS DSS m P V 2 DSS D DSS m I I I g            P V 2 D o I r A V 