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MOSFET
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• Transistor nMOS
N+ N+
P
Porta
Porta
Dreno
Dreno
Fonte
Fonte
Substrato
Substrato
VDS=cte
IDS
VGS
VTn1 V
VDS
IDS
Região
Triodo
Região de
Saturação
VGS1
VGS2
VGS2>VGS1
(Tensão de Limiar)
S
D
D
G
VDS
VGS
IDS
N+ N+
Silício policristalino
(condutor) Óxido de porta
(isolante)
L
L
W
W
Fonte Dreno
xox
Porta
VDS
VGS
P
Substrato
IDS
Equa
Equaç
ções de I
ões de IDS
DS=f(V
=f(VGS
GS, V
, VDS
DS) de 1
) de 1a
a Ordem
Ordem
• Região de Corte: VGS VTn ou VGS-VTn 0
IDS=0
• Região Triodo: 0< VDS  VGS-VTn
  








2
V
V
V
V
I
2
DS
DS
Tn
GS
n
DS 
• Região de Saturação: 0< VGS-VTn  VDS
 
2
V
V
I
2
Tn
GS
n
DS

  onde 






L
W
xox
ox
n
n



Fator de Ganho







L
W
xox
ox
n
n



Fator de ganho
Fator de ganho
Dependentes
do Processo
porta
de
óxido
do
Espessura
x
óxido
do
dade
Permissivi
elétrons
dos
Mobilidade
ox
ox
n


Dependentes
da Geometria
(lay-out)
W Largura de canal
L Comprimento de canal
• Transistor pMOS
-VDS=cte
-IDS
-VGS
VTp-1 V
-VDS
-IDS
Região
Triodo
Região de
Saturação
-VGS1
-VGS2
(Tensão de Limiar)
P+ P+
N
Porta
Porta
Dreno
Dreno
Fonte
Fonte
Substrato
Substrato
S
D
D
G
VDS
VGS
IDS
• Região de Corte: VGS VTp ou VGS-VTp  0
IDS=0
• Região Triodo: VGS-VTp  VDS < 0
  









2
V
V
V
V
I
2
DS
DS
Tp
GS
p
DS 
• Região de Saturação: VDS VGS-VTp < 0
 
2
V
V
I
2
Tp
GS
p
DS


 







L
W
xox
ox
p
p



Fator de ganho
Fator de ganho
lacunas
das
Mobilidade
p

2
n
p

 
Tensão de Limiar do Transistor canal P
V
VTp
Tp
-
-1 V
1 V Normalmente simétrico com relação a VTn
|VTp| = VTn
Geometrias
n
n
p
p
L
W
L
W

Normalmente para compensar o fato de p< n
e assim podemos ter p=  n
VGS > Vt
VDS < VGS - Vt
VGS > Vt
VDS > VGS - Vt
Transistor MOSFET
F = A / V/s
= F/V.s
= A/(V/s V.s)
= A/V2
Transistor MOSFET
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1)
2)
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2)
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