Microeletrônica
Prof. Luciano Mendes Camillo
professorcamillo@gmail.com
https://sites.google.com/site/cefetmicroeletronica/
Transistores de Efeito
Transistores de Efeito
de Campo
de Campo -
- FET
FET
Transistores de Efeito de Campo
Transistores de Efeito de Campo -
- FET
FET
Transistores de Efeito de Campo
Transistores de Efeito de Campo -
- FET
FET
Transistores de Efeito de Campo
Transistores de Efeito de Campo -
- FET
FET
Transistores de Efeito de Campo
Transistores de Efeito de Campo -
- FET
FET
Transistores de Efeito de Campo
Transistores de Efeito de Campo -
- FET
FET
Transistores de Efeito
Transistores de Efeito
de Campo
de Campo -
- FET
FET
Transistores de Efeito
Transistores de Efeito
de Campo
de Campo -
- FET
FET
Transistores de Efeito
Transistores de Efeito
de Campo
de Campo -
- FET
FET
Transistores de Efeito
Transistores de Efeito
de Campo
de Campo -
- FET
FET
Transistores de Efeito
Transistores de Efeito
de Campo
de Campo -
- FET
FET
Transistores de Efeito
Transistores de Efeito
de Campo
de Campo -
- FET
FET
Transistores de Efeito
Transistores de Efeito
de Campo
de Campo -
- FET
FET
Transistores de Efeito
Transistores de Efeito
de Campo
de Campo -
- FET
FET
Transistores de Efeito
Transistores de Efeito
de Campo
de Campo -
- FET
FET
Transistores de Efeito
Transistores de Efeito
de Campo
de Campo -
- FET
FET
Transistores de Efeito
Transistores de Efeito
de Campo
de Campo -
- FET
FET
MOSFET
MOSFET
MOSFET
MOSFET
MOSFET
MOSFET
MOSFET
MOSFET
MOSFET
MOSFET
MOSFET
Eletrônica III
Eletrônica III
MOSFET
MOSFET
MOSFET
MOSFET
MOSFET
MOSFET
MOSFET
MOSFET
MOSFET
MOSFET
MOSFET
MOSFET
Eq. 5.13
• Transistor nMOS
N+ N+
P
Porta
Porta
Dreno
Dreno
Fonte
Fonte
Substrato
Substrato
VDS=cte
IDS
VGS
VTn1 V
VDS
IDS
Região
Triodo
Região de
Saturação
VGS1
VGS2
VGS2>VGS1
(Tensão de Limiar)
S
D
D
G
VDS
VGS
IDS
N+ N+
Silício policristalino
(condutor) Óxido de porta
(isolante)
L
L
W
W
Fonte Dreno
xox
Porta
VDS
VGS
P
Substrato
IDS
Equa
Equaç
ções de I
ões de IDS
DS=f(V
=f(VGS
GS, V
, VDS
DS) de 1
) de 1a
a Ordem
Ordem
• Região de Corte: VGS VTn ou VGS-VTn 0
IDS=0
• Região Triodo: 0< VDS  VGS-VTn
  








2
V
V
V
V
I
2
DS
DS
Tn
GS
n
DS 
• Região de Saturação: 0< VGS-VTn  VDS
 
2
V
V
I
2
Tn
GS
n
DS

  onde 






L
W
xox
ox
n
n



Fator de Ganho







L
W
xox
ox
n
n



Fator de ganho
Fator de ganho
Dependentes
do Processo
porta
de
óxido
do
Espessura
x
óxido
do
dade
Permissivi
elétrons
dos
Mobilidade
ox
ox
n


Dependentes
da Geometria
(lay-out)
W Largura de canal
L Comprimento de canal
• Transistor pMOS
-VDS=cte
-IDS
-VGS
VTp-1 V
-VDS
-IDS
Região
Triodo
Região de
Saturação
-VGS1
-VGS2
(Tensão de Limiar)
P+ P+
N
Porta
Porta
Dreno
Dreno
Fonte
Fonte
Substrato
Substrato
S
D
D
G
VDS
VGS
IDS
• Região de Corte: VGS VTp ou VGS-VTp  0
IDS=0
• Região Triodo: VGS-VTp  VDS < 0
  









2
V
V
V
V
I
2
DS
DS
Tp
GS
p
DS 
• Região de Saturação: VDS VGS-VTp < 0
 
2
V
V
I
2
Tp
GS
p
DS


 







L
W
xox
ox
p
p



Fator de ganho
Fator de ganho
lacunas
das
Mobilidade
p

2
n
p

 
Tensão de Limiar do Transistor canal P
V
VTp
Tp
-
-1 V
1 V Normalmente simétrico com relação a VTn
|VTp| = VTn
Geometrias
n
n
p
p
L
W
L
W

Normalmente para compensar o fato de p< n
e assim podemos ter p=  n
VGS > Vt
VDS < VGS - Vt
VGS > Vt
VDS > VGS - Vt
Transistor MOSFET
F = A / V/s
= F/V.s
= A/(V/s V.s)
= A/V2
Transistor MOSFET
Transistor MOSFET
1)
2)
3)
4)
2)
2)
Transistor MOSFET
1)
2)
3)
4)
2)
Gele7319 microeletronica   aula-02  fe ts
Gele7319 microeletronica   aula-02  fe ts

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