Regiane Ragi
SiO2 (óxido)
Dreno
Fonte
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Efeito de corpo
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pensada como se fosse um filme resistivo tipo-n, de
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Para a região do substrato, é usual usarmos o termo em
inglês, body, para designar esta vasta região volumétrica
de semi...
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O filme resistivo tipo-n, no potencial Vs, forma um
capacitor com o gate, onde o óxido é o dielétrico do
capacitor.
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Também há a formação de um segundo capacitor, se
considerarmos a camada de depleção.
GATE
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Corpo ou body
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Então, podemos dizer que, a camada de inversão
pode ser vista como um filme condutor,
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Em analogia com o capacitor de placas paralelas
podemos escrever a capacitância na camada de
depleção como
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Se fizermosVb =Vs, isto é, se a tensão no contato da
fonte for igual à tensão no contato do corpo ou body,
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entre a fonte ou sourcee o corpo ou body, e vamos
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Portanto, a camada de inversão deve levar em conta
também esta carga, e então escrevemos
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simples, se adotarmos uma modificação na tensão
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escrever a fórmula da carga de inversão de modo a
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corpo for inversamente
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O fato de que, a tensão de threshold, Vt, seja uma
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Quando vários NFETs ou PFETs estão ligados em série
num circuito, eles compartilham um corpo em comum,
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Claramente algumas junções fonte-corpo dos
transistores serão polarizadas reversamente.
26
Isto aumenta a tensão de threshold, Vt, e reduz a
corrente dreno-fonte Ids e a velocidade do circuito.
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Degradando assim, o desempenho do circuito.
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Circuitos, portanto, apresentam um melhor
desempenho, quando Vt for o mais indiferente possível
àVSB, isto é, em outras...
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Isto pode ser conseguido minimizando-se a razão
Tox /Wdmax.
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Por isso, uma camada de óxido fina é desejável.
Tox /Wdmax
31
α na Eq. (6.4.6) pode ser extraída a partir da derivada
da curva na Fig. 6-13c e é chamada de coeficiente de
efeito de ...
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Transistores modernos empregam
steep retrograde body doping profiles
ou perfis de dopagem de corpo retrógrado acentuado...
33
Steep retrograde doping ou dopagem retrógrada
acentuada permite ao transistor encolher para
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34
A espessura da camada de depleção é, basicamente, a
espessura da região levemente dopada.
35
Conforme a tensão de polarização no substrato, Vsb,
aumenta, a camada de depleção não se altera
significativamente.
36
Portanto Cdep e α são basicamente constantes.
37
Como resultado, os transistores modernos
apresentam uma relação mais ou menos linear entre
Vt eVsb.
38
Dizer que é uma relação linear, significa que
Wdmax
e, portanto, a relação
Cdep/Coxe
são independentes da polarização d...
39
Em gerações mais antigas de MOSFETs, a densidade de
dopagem do corpo é mais ou menos uniforme (ver a
curva inferior na ...
40
Nesse caso, a teoria para o efeito de corpo é mais
complicada.
41
Vt pode ser obtida substituindo-se o termo 2φB (o
encurvamento de banda no corpo) na Eq. (5.4.3)
por 2φB + Vsb
42
Onde γ é chamado de parâmetro de efeito de corpo.
43
A equação (6.4.8) prevê que Vt seja uma função
sublinear de Vsb.
44
Uma pista dessa sublinearidade é observada nos dados
da Fig. 6-13c.
https://people.eecs.berkeley.edu/~hu/Chenming-Hu_ch...
45
A equação (6.4.8)
é algumas vezes linearizada através expansão de Taylor
de modo que Vt seja expressa como uma função l...
46
Carga de inversão Qinv
no MOSFET
47
Vamos considerar Fig. 6-15 da Ref. (1), com Vd > Vs.
https://people.eecs.berkeley.edu/~hu/Chenming-Hu_ch6.pdf, pagina 2...
48
Neste caso, a tensão no canal, Vc, é agora uma função
da posição x, onde
Vc = Vs em x = 0 e
Vc = Vd em x = L
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Compare um ponto no meio do canal onde Vc > Vs com
um ponto na extremidade do canal, na fonte S, onde
Vc = Vs
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Uma vez que a tensão no meio do canal é maior em
Vc (x), há menos tensão no capacitor de óxido (e
através do capacitor ...
51
Portanto, haverá menos elétrons sobre o eletrodo do
capacitor (a camada de inversão).
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Especificamente, o termoVgs na equação
deve ser substituído por
Vgc (x) ouVgs –Vcs (x) e
Vsb porVsb +Vcs (x).
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m é tipicamente cerca de 1,2.
55
Todavia, obviamente, é mais fácil e aceitável no início,
considerar simplesmente m = 1.
56
No entanto, incluindo m nas equações melhora
significativamente seus resultados para futuras
aplicações.
57
O corpo é às vezes chamado de back gate ou de porta
de trás, uma vez que tem claramente um efeito similar
embora mais f...
58
O efeito de back-gate sobre a carga de inversão, Qinv, é
muitas vezes chamado de efeito bulk-carga, e m é
chamado de fa...
59
É evidente que o efeito de bulk-carga está intimamente
ligado ao efeito corpo apresentado anteriormente.
Referências
60
61
http://www.eecs.berkeley.edu/~hu/Chenming-Hu_ch6.pdf
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O modelo básico de corrente-tensão I-V dos MOSFETs - 2

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O modelo básico de corrente-tensão I-V dos MOSFETs - 2

  1. 1. Regiane Ragi SiO2 (óxido) Dreno Fonte Porta Silíciotipo-p Canal de portadores VG y z xSilíciotipo-n 1
  2. 2. 2 Efeito de corpo
  3. 3. 3 A camada de inversão de um MOSFET pode ser pensada como se fosse um filme resistivo tipo-n, de espessura da ordem de 1-2 nm, que conecta a fonte e o dreno, como mostra a figura abaixo. GATE Substrato-p - - --N+ N+- - -- Toxe Vg Vs Vb
  4. 4. 4 Para a região do substrato, é usual usarmos o termo em inglês, body, para designar esta vasta região volumétrica de semicondutor, frente à uma fina camada de elétrons, por exemplo, na camada de inversão. GATE Substrato-p Corpo ou body - - --N+ N+- - -- Toxe Vg Vs Vb
  5. 5. 5 O filme resistivo tipo-n, no potencial Vs, forma um capacitor com o gate, onde o óxido é o dielétrico do capacitor. GATE Substrato-p Corpo ou body - - --N+ N+- - -- Toxe Vg Vs Vb
  6. 6. 6 Também há a formação de um segundo capacitor, se considerarmos a camada de depleção. GATE Substrato-p Corpo ou body - - --N+ N+- - -- Toxe Vg Wdmax Vs Vb
  7. 7. 7 Então, podemos dizer que, a camada de inversão pode ser vista como um filme condutor, acoplado àVg através da capacitância do óxido, e acoplado àVb através da capacitância da camada de depleção.
  8. 8. 8 Em analogia com o capacitor de placas paralelas podemos escrever a capacitância na camada de depleção como
  9. 9. 9 Se fizermosVb =Vs, isto é, se a tensão no contato da fonte for igual à tensão no contato do corpo ou body, sabemos a partir de aulas anteriores, que podemos escrever a carga na camada de inversão como GATE Substrato-p Corpo ou body - - --N+ N+- - -- Toxe Vg Wdmax Vs Vb
  10. 10. 10 Podemos agora assumir que há também uma tensão entre a fonte ou sourcee o corpo ou body, e vamos denominá-la deVsb. GATE Substrato-p Corpo ou body - - --N+ N+- - -- Toxe Vg Wdmax Vs Vb
  11. 11. 11 Desde que, o corpo (body) e o canal estão acoplados pela capacitância Cdep, a tensãoVsb induz uma carga na camada de inversão dada por GATE Substrato-p Corpo ou body - - --N+ N+- - -- Toxe Vg Wdmax Vs Vb
  12. 12. 12 Portanto, a camada de inversão deve levar em conta também esta carga, e então escrevemos GATE Substrato-p Corpo ou body - - --N+ N+- - -- Toxe Vg Wdmax Vs Vb
  13. 13. 13 Ou ainda GATE Substrato-p Corpo ou body - - --N+ N+- - -- Toxe Vg Wdmax Vs Vb
  14. 14. 14 Que pode ser modificada para uma forma mais simples, se adotarmos uma modificação na tensão de threshold,Vt. GATE Substrato-p Corpo ou body - - --N+ N+- - -- Toxe Vg Wdmax Vs Vb
  15. 15. 15 De modo que ...
  16. 16. 16 O que temos chamado até agora deVt, passa a ser chamado de agora em adiante, deVt0. Assim, GATE Substrato-p Corpo ou body - - --N+ N+- - -- Toxe Vg Wdmax Vs Vb
  17. 17. 17 O que temos chamado até agora deVt, passa a ser chamado de agora em adiante, deVt0. Assim, GATE Substrato-p Corpo ou body - - --N+ N+- - -- Toxe Vg Wdmax Vs Vb E chamaremos com
  18. 18. 18 Note que, o que fizemos foi apenas uma maneira de escrever a fórmula da carga de inversão de modo a lembrar a forma que a expressávamos inicialmente. GATE Substrato-p Corpo ou body - - --N+ N+- - -- Toxe Vg Wdmax Vs Vb
  19. 19. 19 Na expressão para o α, o fator 3 é a razão entre as constantes dielétricas relativas i. do silício (11.9) e ii. do SiO2 (3.9).
  20. 20. 20 https://people.eecs.berkeley.edu/~hu/Chenming-Hu_ch6.pdf, pagina 207 A figura 6-13c da Referência (1) ilustra a conclusão de que Vt é uma função aproximadamente linear de Vsb, a tensão na junção corpo-fonte, ou do inglês body-source. (1)
  21. 21. 21 https://people.eecs.berkeley.edu/~hu/Chenming-Hu_ch6.pdf, pagina 207(1) Quando a junção fonte- corpo for inversamente polarizada, a tensão Vt do NFET torna-se mais positiva e a do PFET torna-se mais negativa. Vt A figura 6-13c da Referência (1) ilustra a conclusão de que Vt é uma função aproximadamente linear de Vsb, a tensão na junção corpo-fonte, ou do inglês body-source.
  22. 22. 22 https://people.eecs.berkeley.edu/~hu/Chenming-Hu_ch6.pdf, pagina 207(1) Normalmente, as junções fonte- substrato, nunca estão polarizadas diretamente, de modo que nunca ocorre corrente direta de díodo. Vt A figura 6-13c da Referência (1) ilustra a conclusão de que Vt é uma função aproximadamente linear de Vsb, a tensão na junção corpo-fonte, ou do inglês body-source.
  23. 23. 23 O fato de que, a tensão de threshold, Vt, seja uma função da polarização do corpo, o substrato de silício, ou bodyem inglês, é chamado de efeito de corpo ou body effect.
  24. 24. 24 Quando vários NFETs ou PFETs estão ligados em série num circuito, eles compartilham um corpo em comum, o substrato de silício, mas seus terminais de fonte não têm a mesma tensão.
  25. 25. 25 Claramente algumas junções fonte-corpo dos transistores serão polarizadas reversamente.
  26. 26. 26 Isto aumenta a tensão de threshold, Vt, e reduz a corrente dreno-fonte Ids e a velocidade do circuito.
  27. 27. 27 Degradando assim, o desempenho do circuito.
  28. 28. 28 Circuitos, portanto, apresentam um melhor desempenho, quando Vt for o mais indiferente possível àVSB, isto é, em outras palavras, o efeito de corpo deve ser minimizado.
  29. 29. 29 Isto pode ser conseguido minimizando-se a razão Tox /Wdmax.
  30. 30. 30 Por isso, uma camada de óxido fina é desejável. Tox /Wdmax
  31. 31. 31 α na Eq. (6.4.6) pode ser extraída a partir da derivada da curva na Fig. 6-13c e é chamada de coeficiente de efeito de corpo. https://people.eecs.berkeley.edu/~hu/Chenming-Hu_ch6.pdf, pagina 207(1)
  32. 32. 32 Transistores modernos empregam steep retrograde body doping profiles ou perfis de dopagem de corpo retrógrado acentuados (levemente dopado em uma camada superficial fina e pesadamente dopado embaixo) ilustrado na Fig. 6-14. https://people.eecs.berkeley.edu/~hu/Chenming-Hu_ch6.pdf, pagina 209(1)
  33. 33. 33 Steep retrograde doping ou dopagem retrógrada acentuada permite ao transistor encolher para tamanhos menores para redução de custos e redução de espalhamento por impurezas.
  34. 34. 34 A espessura da camada de depleção é, basicamente, a espessura da região levemente dopada.
  35. 35. 35 Conforme a tensão de polarização no substrato, Vsb, aumenta, a camada de depleção não se altera significativamente.
  36. 36. 36 Portanto Cdep e α são basicamente constantes.
  37. 37. 37 Como resultado, os transistores modernos apresentam uma relação mais ou menos linear entre Vt eVsb.
  38. 38. 38 Dizer que é uma relação linear, significa que Wdmax e, portanto, a relação Cdep/Coxe são independentes da polarização do bodyou do corpo.
  39. 39. 39 Em gerações mais antigas de MOSFETs, a densidade de dopagem do corpo é mais ou menos uniforme (ver a curva inferior na Fig. 6-14) e Wdmax varia com Vsb. https://people.eecs.berkeley.edu/~hu/Chenming-Hu_ch6.pdf, pagina 209(1)
  40. 40. 40 Nesse caso, a teoria para o efeito de corpo é mais complicada.
  41. 41. 41 Vt pode ser obtida substituindo-se o termo 2φB (o encurvamento de banda no corpo) na Eq. (5.4.3) por 2φB + Vsb
  42. 42. 42 Onde γ é chamado de parâmetro de efeito de corpo.
  43. 43. 43 A equação (6.4.8) prevê que Vt seja uma função sublinear de Vsb.
  44. 44. 44 Uma pista dessa sublinearidade é observada nos dados da Fig. 6-13c. https://people.eecs.berkeley.edu/~hu/Chenming-Hu_ch6.pdf, pagina 207(1)
  45. 45. 45 A equação (6.4.8) é algumas vezes linearizada através expansão de Taylor de modo que Vt seja expressa como uma função linear de Vsb sob a forma de equação. (6.4.6).
  46. 46. 46 Carga de inversão Qinv no MOSFET
  47. 47. 47 Vamos considerar Fig. 6-15 da Ref. (1), com Vd > Vs. https://people.eecs.berkeley.edu/~hu/Chenming-Hu_ch6.pdf, pagina 210(1)
  48. 48. 48 Neste caso, a tensão no canal, Vc, é agora uma função da posição x, onde Vc = Vs em x = 0 e Vc = Vd em x = L
  49. 49. 49 Compare um ponto no meio do canal onde Vc > Vs com um ponto na extremidade do canal, na fonte S, onde Vc = Vs
  50. 50. 50 Uma vez que a tensão no meio do canal é maior em Vc (x), há menos tensão no capacitor de óxido (e através do capacitor da camada de depleção).
  51. 51. 51 Portanto, haverá menos elétrons sobre o eletrodo do capacitor (a camada de inversão).
  52. 52. 52 Especificamente, o termoVgs na equação deve ser substituído por Vgc (x) ouVgs –Vcs (x) e Vsb porVsb +Vcs (x).
  53. 53. 53
  54. 54. 54 m é tipicamente cerca de 1,2.
  55. 55. 55 Todavia, obviamente, é mais fácil e aceitável no início, considerar simplesmente m = 1.
  56. 56. 56 No entanto, incluindo m nas equações melhora significativamente seus resultados para futuras aplicações.
  57. 57. 57 O corpo é às vezes chamado de back gate ou de porta de trás, uma vez que tem claramente um efeito similar embora mais fraco sobre a carga do canal.
  58. 58. 58 O efeito de back-gate sobre a carga de inversão, Qinv, é muitas vezes chamado de efeito bulk-carga, e m é chamado de fator de bulk-carga.
  59. 59. 59 É evidente que o efeito de bulk-carga está intimamente ligado ao efeito corpo apresentado anteriormente.
  60. 60. Referências 60
  61. 61. 61 http://www.eecs.berkeley.edu/~hu/Chenming-Hu_ch6.pdf

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