Novas abordagens para a fabricação de circuitos eletrônicos utilizando nanotecnologia Aluno: Rafael Fernandes Maia Mores
Objetivo <ul><li>Mostrar o contraste dos métodos “convencionais” e mais recentes ( na escala nano )
Apresentar uma tecnologia de ponta ( Intel Tri-gate  Transistor ) </li></ul>
Metodologia <ul><li>Explicar o processo convencional de confecção de circuitos impressos ( fotolitografia )
Contrastar com os métodos discutidos em sala( Feixe de elétrons, Raio-X, etc. )
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  1. 1. Novas abordagens para a fabricação de circuitos eletrônicos utilizando nanotecnologia Aluno: Rafael Fernandes Maia Mores
  2. 2. Objetivo <ul><li>Mostrar o contraste dos métodos “convencionais” e mais recentes ( na escala nano )
  3. 3. Apresentar uma tecnologia de ponta ( Intel Tri-gate Transistor ) </li></ul>
  4. 4. Metodologia <ul><li>Explicar o processo convencional de confecção de circuitos impressos ( fotolitografia )
  5. 5. Contrastar com os métodos discutidos em sala( Feixe de elétrons, Raio-X, etc. )
  6. 6. Mostrar o estado da arte em transistores ( Intel Tri-Gate ) </li></ul>
  7. 7. Descrição do produto final <ul><li>É possível diminuir em até 37% o desperdício de energia no “chaveamento” dos transistores “Tri-Gate”
  8. 8. Confinamento quântico dos elétrons, aumentando a superfície de contato na região de depleção ( caminho 2D )
  9. 9. O tempo de resposta cai e a tensão de operação é menor
  10. 10. Só é possível com nanotecnologia </li></ul>
  11. 11. FIM &quot;For years we have seen limits to how small transistors can get,&quot; said Gordon E. Moore. &quot;This change in the basic structure is a truly revolutionary approach, and one that should allow Moore's Law, and the historic pace of innovation, to continue.&quot; - Gordon E. Moore Vídeo da Intel sobre o transistor Tri-Gate: http://www.youtube.com/watch?v=YIkMaQJSyP8

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