Tipo de filtro usado na pesquisa de purificação de Biogás em São Gabriel

1. Aplicação de Filtro
Químico no Sistema de Ar
Condicionado de Sala Limpa
Tian Shiai, Yu Ziqiang
Resumo desempenho e invalidação. Por exemplo, na indústria de
semicondutores, AMC causa na cobertura de formato ‘T’
Em instalações de semicondutores, os programas de da blindagem ótica (Fig. 1), o efeito de corrosão, o cresci-
controle de contaminação exigem o uso de filtros de mento não-uniforme da camada de oxidação, a mudança
particulados no ar de alta eficiência (HEPA) e filtros de ar no caráter da placa de cristal, a diminuição da integrida-
de penetração ultra baixa (ULPA) para controlar a quan- de da camada de oxidação da grelha, e assim por diante.
tidade de partículas. Contudo, conforme as dimensões [1, 2] Na indústria acima, filtro de ar de particulados de
dos chips diminuem, os contaminantes moleculares do ar alta eficiência (HEPA) ou filtro de ar de penetração ultra
(AMC) que constituem uma ameaça para o desempenho baixa (ULPA) são os que mais equipam as salas limpas.
e confiabilidade do produto, se tornaram a contaminação Estes equipamentos são muito eficientes para filtrar partí-
principal nas salas limpas para semicondutores. Este tra- culas cujos tamanhos estiverem acima de 0,05 µm, porém,
balho apresenta a classificação e princípios de medição eles não têm efeito sobre partículas para as quais os tama-
de AMC, os principios de filtração química e sua aplica- nhos médios vão de 10 Å à 100 Å. Com o propósito de
ção no condicionamento de ar em sala limpa. Palavras de retirar AMC, os fabricantes estão produzindo diversas
chave: Filtro químico / Ar Condicionado de Sala Limpa / categorias de filtros químicos.
Contaminantes Moleculares do Ar, Aplicação (Utilização).
1. Introdução
Nas indústrias de ciência e tecnologia avançadas de Tempo Zero 10 minutos após 20 minutos após 40 minutos após
dispositivos semicondutores, disco rigído e telas de
cristal líquido, com o aumento dos procedimentos de Figura 1 - Defeitos de fotoresistência por exposição à
trabalho e a diminuição das dimensões dos dispositivos, parte superior T a NH3 (4ppb)(3)
a presença dos AMC usualmente resulta na diminuição
da porcentagem de produtos acabados, e degeneração de Este trabalho introduz a tecnologia de classificação e
detecção de AMC, e o princípio, estrutura e a aplicação
de filtro químico no ar condicionado de sala limpa.
Trabalho apresentado no 18th ICCCS - International
2. Contaminantes moleculares gerados
Symposium on Contamination Control. pelo ar (AMC)
Reprodução permitida pela ICCCS para
a Revista da SBCC
2.1. Classificação de AMC
Nas normas SEMI F21-95 e SEMI F21-1102, compiladas
SBCC
julho / agosto 2008 35

2. artigo técnico
pela Associação Internacional de Dispositivos e Materiais Tabela 2 - Fontes típicas de AMC em salas limpas
Semicondutores, a classificação de AMC é a seguinte. [3,4]
Fontes Classificação Chemical
Ácidos Moleculares (MA): Um material corrosivo
cuja reação química característica é aquela de receptor Plastificante, oxidante, retardante de chama,
Equipamento
de elétrons, tal como hidrofluorídrico (HF), dióxido de lubrificante, produto de limpeza
enxofre (SO2), cloreto de hidrogênio (HCl), brometo de Processo
Ácido Sulfúrico, fluoreto de hidrogênio, Amônia,
hidrogênio (HBr); Subst. Química
gás de purifcação
Bases Moleculares (MB): Um material corrosivo cuja Gás de Exaustão Substância Ácida, substância básica ,
reação química característica é de um doador de elétron da Fábrica solvente,Composto Orgânico Volátil
tal como amônia (NH3), metilamina (CH3 NH2), trimetila-
Poluição do Gases do escapamento de automóvel, Gases do
mina (CH3) 3N Morfolina; Ar externo
Tráfego escapamento de aviões
Condensável Molecular (MC): Uma substância (diferen- Poluição dos Odores de Combustão, odores de esgoto,
te de água) que normalmente tem um ponto de ebulição meios de vida odores de lixo
acima da temperatura ambiente na pressão atmosférica Construção Concreto, graxa, armações
capaz de condensar sobre uma superfície limpa, tal como
Material de Plastificante, retardante a chama, cola, material
silicone (ponto de ebulição≥ 150°C) e hidrocarboneto Material da planta
Construção de isolamento térmico
(ponto de ebulição≥ 150°C);
Limpeza Produto de Limpeza
Inibidores Moleculares (MD): Um elemento químico Secreção Respiração, suor, cosmético
Operador
o qual modifica as propriedades elétricas de um material Panos de limpeza Produto de lavanderia, antisséptico
semicondutor, tal como boron (usualmente como ácido Filtros HEPA VOC, Be, P
bórico), fósforo (usualmente como organofosfatos), arsêni-
co (usualmente como arsenatos). Todos os íons metálicos 2.3 Tecnologia de detecção de AMC
têm a capacidade de adicionar impurezas a um semicondu-
tor, tais como K+, NA+, CA2+ e assim por diante. Por meio da detecção de AMC, as pessoas não só
A classificação de AMC está listada na Tabela 1 podem saber dos efeitos de AMC no processo e produto,
mas também, somente assim podem avaliar a eficiência e
Tabela 1 - Método de Classificação SEMI F21-1102 duração de um filtro químico. Quando se escolhe o méto-
AMC [5] do de detecção, sensibilidade, precisão, anti-interferência,
custo e complexidade devem ser considerados. Numa
Classe de Material Classificação ( * concentração em ppt) sala limpa a concentração de AMC é geralmente baixa e é
principalmente na classe ppb (10-9), ou mesmo na classe
1* 10 * 100 * 1000 * 10000 *
ppt (10-12). Então a sensibilidade do instrumento é a pri-
Ácidos MA1 MA10 MA100 MA1000 MA10000 meira consideração para a fábrica de semicondutores.
Bases MB1 MB10 MB100 MB1000 MB10000
2.3.1. Tecnologia de medição direta
Condensável MC1 MC10 MC100 MC1000 MC10000
Com a detecção automática e em tempo real para
Inibidores MD1 MD10 MD100 MD1000 MD10000 AMC, mudanças nos AMC podem ser obtidas imediata-
mente. Esta tecnologia tem sido aprovada recentemente.
Observações: A unidade pptM significa partes por tri- Atuamente, SO2, H2S, NOX e NH3 são os principais gases
lhão molar. 1pptM=10-12 mole de concentração. Se 1012 medidos em tempo real em salas limpas. Princípios de
moléculas de gás contêm somente 10 moléculas de gás medição rotineiros incluem luminescência quimica, flu-
perigosas, a classe de concentração é MA 10. orescência de UV e Detector de Foto Ionização (PID),
Espectrometria de Mobilidade de Íons (IMS) e Sensor
Eletroquímico. Numa sala limpa classe 10 de uma fábrica
2.2 Fontes de AMC de semicondutores, nós usamos detectores automáticos
para medir a concentração de SO2, NO, NO2 e NH3. Os
As fontes de AMC estão detalhadamente listadas resultados estão mostrados na Figura 2. A concentração
na Tabela 2. média de SO2, NO, NO2 e NH3 é respectivamente de
SBCC
36 julho / agosto 2008

3. Concentração ppb
2.3.3 Tecnologia de medição
indireta
2.3.3.1 Tecnologia de análise
de superfície
A folha de coleta é colocada dentro
Tempo da sala limpa de semicondutores e AMC
forma o filme de deposição de depo-
21,23 / 25,79 / 47,6 e 83,26 ppb. Isto é muito mais alto do sição atômica e molecular sobre a superfície da folha de
que o valor requerido. coleta. Em virtude das tecnologias de análise de superfície
Figura 2 - Concentrações de AMC numa Sala Limpa incluindo AES, XPS e SIMS, o filme de poluição da folha de
coleta é medido, e depois a concentração de AMC pode
ser conseguida indiretamente. A comparação de tecnolo-
2.3.2 Tecnologia de análise por gia de análise de superfície está listada na Tabela 4.
amostragem Em algumas empresas de semicondutores, se usa a folha
Tecnologia de análise por amostragem é uma medição de prata e AES para analisar a condição de poluição do ar
em que a amostra é coletada no local, e depois analisada na sala limpa. Os dados da medição mostram-se na Figura
em laboratório. As principais tecnologias de análise por 3. O resultado mostra que o conteúdo de S, O, C, CI e Ca
amostragem estão listadas na Tabela 3. Em termos das na área poluída é mais alto do que na area não poluída.
condições e requisitos atuais, a análise correta de amos- Isto pode ter resultado da poluição AMC no ar.
tragem medida é selecionada de acordo com a aplicação.
Por exemplo, o gás orgânico volátil é amostrado com
tubo de aço inox, e é analisado por cromatografia de fase
gasosa e espectrometria de massa (GC/MS); o componen-
S / Ag
te inorgânico é amostrado com a solução de absorção, e é
analisado com cromatografia de íon (IC) e espectrômetro
de plasma indutivamente acoplado (ICP/MS).
Tabela de - Métodos de análise por amostragem principal
Método
3
amostragem
Processo Objeto testado
Equipamento de
teste
Espessura (nm)
Ânion: F-, CI-, NO3-, NO2-, SO42-
Amostragem
Cation: NH4+, Ca2+, Mg2+,
Solução de com garrafa de IC
Na+, K+
absorção impacto e água ICP/MS
Ácido Orgânico: CH3COO-; HCOO-
Cu / Ag
absoluta
Boron (B)
Amostragem
GCTD-GC/MS
com carvão
Absorção de (Cromatôgrafo de Gás de
ativado e Tenax Hidrocarboneto, oxosilane
sólidos Desabsorção Térmica /
e separação por
Espectrômetro de Massa)
calor Espessura (nm)
Coleta de ar com
Recipiente de GC
bolsa, frasco e Componentes do ar
coleta GC/MS
tubo de aço inox
Cl / Ag
Cromatôgrafo de
Tiras de gás de desabsorção
cobre, prata ou térmica de plaqueta,
Coleta de Componentes orgânicos,
silicone para espectrometria de
exposição ácidos e básicos
absorção de massa)
gases no local AES
SIMS
Espessura (nm)
SBCC
julho / agosto 2008 37

4. artigo técnico
sura do filme de corrosão depois da correção. De acordo
com a norma de classificação emitida pela Associação
Americana de Instrumentos e aparelhos, o ambiente pode
O / Ag
ser classificado de acordo com estes dados. (Tabela 5). [6]
O nivel de AMC pode ser obtido indiretamente. Este tipo
de aparelho tem alta sensibilidade e resolução no tempo
e pode detectar a mudança no ambiente em tempo real
Espessura (nm) e diretamente.
Tabela 5 I.S.A. – S7104 Gráfico de Classificação
Classes de Ambiente ISA, Umidade Relativa <50%.
C / Ag
Espessura de Filme em
ISA Classe G1 ISA Classe G2 ISA Classe G3 ISA Classe Gx
Plaqueta de Cobre
0 ~ 299 300 ~ 999 1000~ 1999 ≤ 2000
(Angstroms)
Concentrações de gás (Parte por Bilhão por Volume)
G1 G2 G3 Gx
H2S ≤3 ≤10 ≤50 >50
Figura 3 – Comparação de dados de medição (A1 – SO2, SO3 ≤10 ≤100 ≤300 >300
regiões descoloradas A2- regiões normais) CL2 ≤1 ≤2 ≤10 >10
Nox ≤50 ≤125 ≤1250 >1250
Tabela 4 Lista de tecnologias de análise de superfícies HF ≤1 ≤2 ≤10 >10
Profundidade NH3 ≤500 ≤10000 ≤25000 >25000
da amostra Elementos
Partícula de O3 ≤2 ≤25 ≤100 >100
Método Informação Resolução (camada Quantidade além da Sensibilidade
detecção
de átomo análise
simples)
Se o cristal de quartzo piezoelétrico for substituído pelo
Análise de Eletrônico
elementos / Raios-X,/ aparelho de Onda Acústica de Superfície (SAW), obtém-
AES 5nm 3 fácil H, He 0,1%
em estado Elétron se o sensor de de condução SAW .
químico perfurante SAW é um dos tipos de tecnologias de detecção de qua-
Análise de
lidade sensível e rápida. Devido à freqüência de trabalho
elementos Raios-X/, muito alta, a sensibilidade do sensor SAW é 100 vezes a do
XPS 5µm 3 fácil H, He 0,3%
em estado fotoelétron QCM tradicional. [7] O dispositivo de detecção feito de
químico
SAW fornece então os dados de mudança de qualidade.
Análise de Então a situação de poluição ambiental pode ser obtida
SIMS elementos
1µm 2 0,01%
Íons / íons indiretamente.
(Static) em estado faiscantes
químico
3. Filtro químico
SIMS Análise de Íons / íons Agora, se o filtro químico for instalado no sistema
50µm 10 difícil < 0,0001%
(dynamic) Elementos faiscantes
de ar condicionado, a concentração de AMC pode ser
efetivamente diminuída e alcançar o padrão ou a faixa
requerida. O filtro químico usa geralmente o carvão
ativo, alumina e resina de troca de íons como agente
de limpeza para eliminar AMC. Os princípios incluem
2.3.3.2 Sensor de cristal piezelétrico absorção física e química.
De acordo com o princípio de sintonia piezelétrica, o
Micro-equilíbrio do Cristal de Quartzo (QCM) pode
medir a mudança de qualidade em nano-grama na super-
3.1 Princípio de filtragem química [8-9]
fície do eletrodo. Em virtude do dispositivo de detecção O filtro químico absorve gases seletivamente, e não
feito de Cu ou Hg como os materiais do eletrodo QCM, filtra impurezas por processos mecanicos O esquema da
a mudança de qualidade pode ser medida como a espes- filtragem de gás no filtro químico é mostrada na Figura 4.
SBCC
38 julho / agosto 2008

5. A absorção é aquela em que as moléculas de gás ou líqui- mina e resina de troca de íons como materiais de filtra-
do aderem à superfície da substância sólida. A substância gem. Esses agentes estão listados na Tabela 6. Devido às
sólida é o absorvente e o gás ou líquido é chamado de vantagens da grande área de superfície específica, amplo
substância absorvida. espectro de absorção, [10,11] fontes abundantes e baixo
custo, o carvão ativado é amplamente usado nos filtros
carvão
ativado químicos. É constantemente chamado de filtro de car-
gases procurados
meio vão ativado. O carvão ativado é mostrado na Figura 5.
A absorção de amplo espectro está listada na tabela 7. A
gases alumina tratada com KMnO4 é também o maior agente
procurados
de limpeza nos filtros químicos, e mostrada na Figura 6.
meio
Tabela 6 - Tipos comuns de meios em filtro químico
Classe química
Processo de
Troca de íons Composição do meio Gases Alvo
Absorção química Remoção
Carvão ativado Adsorção Física VOC, dióxido de enxofre (SO2)
Figura 4 - Diagrama esquemático de remoção de AMC Carvão ativado + Hidróxido de Ácido clorídrico (HCl) sulfeto de
Adsorção Química
Potássio (KOH) hidrogênio (H2S), SO2
A absorção pode ser dividida em absorção física e quí- Carvão ativado + Ácido
Absorção Química Amônia (NH3), NMP, aminas
mica. A absorção física depende das forças de Van der Fosfórico (H2PO4)
Waals. Ocorre freqüentemente em baixa temperatura. A Carvão Ativado + Sulfato de
Absorção Química NH3,- H2S
capacidade de absorção é aumentada com a diminuição Cobre (CuSO4)
da temperatura do gás. É um processo reversível. Por H2S, SO2, formaldeído (HCHO),
Alumina ativada +
Óxidos de Nitrogênio (NOx),
exemplo, a absorção pelo carvão ativado dos orgânicos Permanganato de Potássio Absorção Química
etileno (C2H4), acetaldeído
é uma absorção física. Com o objetivo de aumentar a (KMnOH4)
(C2H5O)
capacidade de absorção dos materiais para gases especiais Alumina ativada + Hiposulfito
incluindo NH3, HF e formaldeído, o absorvente é usual- Absorção Química C12
de Sódio (Na2S2O3)
mente tratado quimicamente. A absorção baseada na Resina de troca de cation Troca de íon NH3, aminas
reação entre os materiais e gases prejudiciais é chamada
Resina de troca de ânion Troca de íon HC1, HF, HNO3,ácido orgânico
de absorção química. É um tipo de absorção seletiva. Um
Fibra de carvão ativado (ACF) Adsorção Física VOC
absorvente pode absorver somente um determinado gas
ou vários gases. A absorção química não é um processo
reversível. O absorvente primeiro absorve as moléculas Tabela 7 Capacidade de adsorção do carvão ativado de
Capacidade
Fórmula Peso
de gás pela força de Van der Waals, e depois reage com as Substância adsorção (por
Molecular Molecular
peso, %)
moléculas de poluição, para formar o sólido ou gases não
prejudiciais. Durante a filtragem, a capacidade de absor- Acetaldeído C2H4O 44,1 7
ção é gradualmente enfraquecida, até se reduzir a zero. Ácido Butírico C4H8O2 88,1 35
Quando a absorção continua, a dessorção ocorre ao Tetracloreto CCI4 153,8 45
mesmo tempo. A desorção é quando as moléculas de gás Acetato Etílico C4H8O2 88,1 19
absorvidas se desprendem do absorvente. A dessorção Ethamethiol C2H6S 64 23
é processo inverso da absorção. Em algumas condições,
Cânfora C10H18O 154,2 20
depois de um tempo suficientemente longo, a absorção
e dessorção alcançam o equilíbrio dinâmico, e o absor- Hexano C6H14 86 16
vente fica saturado. Por meio da dessorção, a absorção Tolueno C7H8 92 29
consegue novamente a capacidade de absorção, a qual é Dixido de enxofre SO2 64 10
chamada de regeneração. Para absorção física, o carvão Amônia NH3 17 1,3
ativado pode ser regenerado com calor, vapor, descom-
Cloro CI2 71 2,2
pressão e substituição. Porém, a absorção química geral-
Sulfeto de hidrogênio H2S 34 1,4
mente não pode ser regenerada.
Benzeno C6H6 78,1 24
Fenol C6H6O 94,1 30
3.2 Agente de limpeza
Ozônio O3 48 O2
O filtro químico usa geralmente o carvão ativado, alu-
SBCC
julho / agosto 2008 39

6. artigo técnico
Capacidade de
Substância
Fórmula Peso
adsorção (por
(Figura 7) e a forma em ‘V’ (Figura 8) são as estruturas clás-
Molecular Molecular sicas do filtro químico. A espessura da camada de absorção
peso, %)
Ácido Valérico C5H10O2 102,1 35 está, na maioria das vezes, na faixa de 10 – 75 mm.
Mercaptano de etila C2H6S 62,1 23
3-methyllindole C9H9N 131,2 25
Bissulfeto de Carbono CS2 76 15
gás gás
Bylyric C5H10O2 102 35 impuro impuro ar puro
Odor de fumaça de cigarro Alta
Odores de cozinha Alta
Odores de Toalete Alta Prefiltro para filtro filtro para
ar puro particulados químico particulados
Odores de Animais Alta
Figura 7 - Filtro de Cartucho Figura 8 - Filtro modelo “V”
3.4 Aplicação de filtro químico
O controle de poluição de AMC é um projeto sistemá-
tico e complexo. Primeiro, a ocorrência de AMC deve ser
diminuída ou evitada. Nós devemos controlar a fonte da
poluição, evitar a difusão dos produtos químicos, esco-
lher os materiais de construção com baixos AMC e usar
separador de cinzas. Segundo, o processo de fabricação
deve ser melhorado, tecnologias de isolamento devem
ser usadas e o tempo de exposição dos produtos no pro-
cesso de fabricação deve ser diminuído. Fazendo assim,
os produtos mais dificilmente serão poluídos por AMC.
Adicionalmente, a técnica recomendada deve ser usada
para limpar o AMC residual.
Agora, na limpeza do ar do sistema de ar condicionado,
Figura 5 - Carvão ativado o filtro químico pode diminuir a concentração de AMC
eficientemente e fazê-lo alcançar a faixa desejada.
O filtro químico usa geralmente o carvão ativado, alu-
mina e resina de troca de íon como agentes de limpeza,
e limpa o AMC com a absorção física e química. As
estruturas de filtros químicos incluem geralmente forma
cilíndrica, formato em V e formato de placa. Eles estão
mostrados na Figura 9.
Caixa PUR
TANT TANH 36
Figura 6 - Alumina impregnada com KMnO4 (PIA)
3.3 Estrutura de filtro químico
ACGL ACGL
carvão carvão ECSL
No sistema de limpeza de ar condicionado, o filtro plissado plissado troca de
fechado profundo íons
químico limpa principalmente o ar novo (ar externo) ou
o ar liberado levemente poluído e faz que eles alcancem
os requisitos da proteção ambiental. A forma cilíndrica Figura 9 - Tipos de filtros químicos
SBCC
40 julho / agosto 2008

7. Na sala limpa, de acordo com os requisitos práticos , o para distinguir a absorção por forças de Van de Waals que
filtro químico é instalado principalmente na tomada de chamam de ADSORÇÃO e usam a palavra ABSORÇÃO
ar exterior na recirculação do ar e no elemento final de para a química. Nesta o carvão é ativado por um material
entrada na sala limpa. Os tipos de instalações são mos- ávido do poluente a reter que reagirá quimicamente com
tradas na Figura 10. o poluente. u
filtro químico HEPA [ULPA]
Revisão da tradução
Celso Simões (Trox) e Raul Sadir (Veco)
Ar de Contato: sbcc@sbcc.com.br
exaustão
(EA)
Ar Exterior (OA) RA
Refrências
[1] Kibkead.D.Joffe M.,Higley.J.,Kishkovich.O., Previsão de
Limites de Contaminantes Moleculares Transportados
Ar de retorno - (RA) pelo Ar para o Processo Lógico de Alto Desempenho
Figura 10 - Áreas de aplicação de filtro químico de 0,25 mícron. Transferência de Tecnologia SEMATECH
#95052812A-TR (1995)
Quando o filtro químico é escolhido, primeiro deve ser [2] Redução de defeitos. Mapa do Caminho Internacional
feita uma análise quantitativa e qualitativa dos gases foca- para Tecnologia de Semicondutores. Associação da
dos. Então, de acordo com os gases que é preciso eliminar, Indústria de Semicondutores (1999).
o filtro químico mais apropriado deve ser selecionado. Ao [3] Kinkead, D.A.. A. Grayfer and O.P. Kishkovich. Prevenção
mesmo tempo, a duração do filtro pode ser estimada de de Contaminação Ótica e de Resistência em Litografia
acordo com a concentração do gás durante a aplicação. É de 300 mm – Melhorias em Filtragem Química do Ar.
necessário analisar periodicamente a duração residual do Proc. SPIE Vol. 4344, p. 739-752, Metrologia, Inspeção
filtro químico. e Controle de Processo para Microlitografia XV, Neal T.
Sullivan; Ed. (2001).
[4] SEMI F21-95, “Classificação de Níveis de Contaminantes
4. Conclusões Moleculares Transportados pelo Ar em Ambientes
4.1 AMC inclui moléculas ácidas, moléculas básicas, mate- Limpos”. Internacional de Equipamentos Semicondutores
riais condensados e materiais inibidores. e Materiais. Mountanin View, CA, 1995, 1996.
4.2 Métodos de medição incluindo IC, GC/MS e ICP/MS, [5] SEMI F21-1102, “Classificação de Níveis de Contaminantes
podem analisar detalhadamente a categoria e concen- Moleculares Transportados pelo Ar em Ambientes
tração de AMC; os sistemas de detecção em tempo real Limpos”. Internacional de Equipamentos Semicondutores
podem detectar a mudança de concentração de gases e Materiais. Mountanin View, CA, 2002.
específicos imediatamente. Quando as tecnologias de [6] ISA Standard S71.04-1985. Controle Ambiental
análise de superfície, tais como AES, XPS e SIMS são para Medição de Processos e Sistemas de Controle:
usadas para detectar a o grau de poluição, elas podem - Contaminantes Transportados pelo Ar, Sociedade
descobrir melhor o grau de influência de AMC. Quando Americana de Instrumentos, Research Triangle
um método de detecção for escolhido, a sensibilida- Park,I986.10-11
de, precisão, anti-interferência, custo e complexidade [7] Ballantine, D.S., et al, Sensores de Onda Acústica.
devem ser considerados. Academic Press. Inc.. San Diego, CA USA, (1997)
4.3 O filtro químico usa geralmente o carvão ativado, PIA [8] Jiang Weijun. Novas Tecnologias de Separação. Chemical
e resina de troca de íon como agentes de limpeza, para Industry Press, 1995, p86-57.
limpar o AMC no sistema de ar condicionado com prin- [9] Cai Jie, ABC de Filtragem do Ar. China Construction
cípios que incluem a absorção física e química. Industry Press. 2002. p.17-20.
4.4 A detecção e controle de AMC é um trabalho possível e
[10] Associação de Materiais de Carvão do Japão.
complexo. Com o objetivo de melhorar, entender e con-
Fundamento e Aplicação de Carvão Ativo, Forestry
trolar o AMC, as fábricas de semicondutores, empresas
Press, 1984, p.266.
de análise e detecção e fabricantes de filtros químicos
[11] Sun Yijian, Manual de Projeto Conciso para Ventilação,
devem aprimorar a cooperação.
China Construction Industry Press, 1997, p.473.
Nota do revisor:Alguns autores usam 2 termos distintos
SBCC
julho / agosto 2008 41